利用設備・機器リスト

以下の設備・機器が共同利用可能です。詳細についてはご相談ください。

 

利用設備リスト

 

設備種類	備考	写真
第１クリーンルーム	クラス1,000（1立方フィート内に含まれる直径0.5ミクロン以上の塵埃1,000以下を保証），200㎡
第２クリーンルーム	クラス1,000（1立方フィート内に含まれる直径0.5ミクロン以上の塵埃1,000以下を保証），100㎡

 

利用機器リスト

 

装置種類	型番	備考	ShareAid	写真
ECRスパッタリング装置	3400UD	最大4inch、SiO2、SiN等
原子層堆積(ALD)装置	SP561-AL	HfO2, Al2O3等
超高真空スパッタリング装置	SPQ-203T	2インチRFマグネトロン 1基、SiO2等
マグネトロンスパッタリング装置	SPQ-303T	2インチRFマグネトロン 3基、Ti、TiN等
三源マグネトロンスパッタリング装置	L-100-HF	2インチRFマグネトロン 3基、Pt、Y、SiO2等
電子ビーム蒸着装置	UL-400EB
酸化/アニール炉	KTF-773N
高温処理炉	KTF433NKN
マスクアライナー	M-2LF	4 or 6inch
マスクアライナー	MA-1200A
反応性イオンエッチング装置	ULVAC NE-701	使用ガス: CF4, CHF3
エリプソメーター	MARY-102
光学顕微鏡	ECLIPSE ME600L
小型プラズマ装置	PR200	サンプル表面の改質、クリーニング

 

利用料金表

利用料金表につきましては 「こちら」をご確認ください